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      MCML-100/MCML-120A SERIES 無掩膜數字光刻機 Digital Maskless Aligner  

      MCML-100/MCML-120A SERIES 無掩膜數字光刻機 Digital Maskless Aligner
      產品特點采用數字微鏡 (DMD) 的無膜模掃描式光刻機,365nm波長直接從數字圖形生成光刻圖案,免去制作掩模板的中間過程,支持直接讀取GDSII和BMP文件全自動化的對焦和套刻,易于使用晶圓連續運動配合DMD動態曝光,無拼接問題。全幅面絕對定位精度0.1um套刻精度: 0.2um500 nm / 1 um分辨率,100mm x 100mm最大幅面(4~6寸晶圓),滿幅面曝光時間5~30分鐘500um最小線寬可灰度曝光(128階)尺寸小巧,可配合專用循環裝置產生內部潔凈空間
       西北華中華東華南 Lily
      13072177323 同微信 可掃碼
       Lily@microphotons.com
       華北西南東北 Tina
      13124873453 同微信 可掃碼
       tina@microphotons.com
      產品型號 2
      貨號 操作 名稱
      H80050012  無掩膜數字光刻機 MCML-110A   [PDF] 波長 365nm 最大幀 100mm x 100mm 分辨率 1.0um 灰度光刻 64 levels 最大曝光量 500mJ/cm2 對準精度 <200nm 場曲率 < 1 um 速度 5mm2 /sec 輸入文件 BMP; GDSII Z級精度 <1 um 環境 20~25℃     價格 : 請聯系客服 庫存/貨期:請咨詢客服
      H80050011  無掩膜數字光刻機 MCML-120A   [PDF] 波長 365nm 最大幀 100mm x 100mm 分辨率 500nm 灰度光刻 128 levels 最大曝光量 2000mJ/cm2 對準精度 <100nm 場曲率 < 1 um 速度 2.5mm2 /sec 輸入文件 BMP; GDSII Z級精度 <1 um 環境 20~25℃     價格 : 請聯系客服 庫存/貨期:請咨詢客服
      總覽

      產品特點

      采用數字微鏡 (DMD) 的無膜模掃描式光刻機,365nm波長

      直接從數字圖形生成光刻圖案,免去制作掩模板的中間過程,支持直接讀取GDSII和BMP文件

      全自動化的對焦和套刻,易于使用

      晶圓連續運動配合DMD動態曝光,無拼接問題。全幅面絕對定位精度0.1um

      套刻精度: 0.2um

      500 nm / 1 um分辨率,100mm x 100mm最大幅面(4~6寸晶圓),滿幅面曝光時間5~30分鐘

      500um最小線寬

      可灰度曝光(128階)

      尺寸小巧,可配合專用循環裝置產生內部潔凈空間

      通用參數

      應用

      微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工

      帶有2.5D圖案的微光學元件,衍射光器件制作

       教學、科研

       

      參數


      MCML-110A

      MCML-120A

      Wavelength 波長

      365nm

      365nm

      Max. frame 最大幀

      100mm x 100mm

      100mm x 100mm

      Resolution 分辨率

      1.0um

      500nm

      Grayscale lithography

      灰度光刻

      64 levels

      128 levels

      Max exposure

      最大曝光量

      500mJ/cm2

      2000mJ/cm2

      Alignment accuracy

      對準精度

      <200nm

      <100nm

      field curvature

      場曲率

      < 1 um

      < 1 um

      Speed

      速度

      5mm2 /sec

      2.5mm2 /sec

      Input file

      輸入文件

      BMP, GDSII

      BMP, GDSII

      Z level accuracy

      Z級精度

      <1 um

      <1 um

      Environment

      環境

      20~25℃

      20~25℃

       

      樣品





      (SU8-2002, 2um膠厚,2寸硅基底)











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